В следствии того, что подвижностиµ
1
иµ
2
отличаются сильно, на участке ВАХ проявляется участок с ОДП.
Для GaAs – характерные точки между которыми происходит перераспределение Еа
иЕв
Еа
=3,2 кВ/смЕв
=20 кВ/см
Так как в GaAs энергия расщепления меньше ширины запрещённой зоны
E<Eg
, то Ев меньше напряжения лавинного пробоя Елп
(Ев
<Елп
).
Механизм междолинных переходов приводящих к появлению участка с ОДС, часе всего называют эффектом Ганна.
Такой эффект реализуется в очень малом количестве полупроводников.
Если подвижностиµ
1
, µ
2
мало отличаются друг от друга, то на ВАХ появляется характеристика без ОДС.
Зарядовая неустойчивость в структурах с ОДС
Рис 7
При выборе рабочей точки на участке ОДС любая зарядовая неустойчивость будет расти. Например, если в какой – то точке увеличивается отрицательный заряд, это приведёт к уменьшению поля слева от него и увеличивается поле справа от него, но при этом ток слева увеличивается, а справа уменьшается. И объёмный заряд будет расти. И это будет происходить до тех пор, пока заряд не вырастет на столько, что поле Е1
и Е3
соответствующие одинаковым токам. После этого рост зарядовой неустойчивости прекратится и, но она будет двигаться по образцу.
В момент выхода объёмного заряда из образца возникает скачок тока и ясно, что время пролёта через образец – есть время соответствующее периоду колебаний тока во внешней цепи.
В случае если ВАХ не имеет участка с ОДС, то зарядовая неустойчивость, вызывающая изменение электрических полей, сама по себе рассасывается.
Рис 8
|